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| 1.单片式装置的优点（与浸渍.槽式比较） |
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| ■晶片表面的微粒数非常少（到25nm可对应） |
例：附着粒子数…10个/W以下（0.08UM以上粒子）
（参考）槽式200个/W |
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■药液纯水的消费量少
药液…（例）1%DHF 的情况 20L/日
纯水...每处理一枚晶片 0.5-1L/分 |
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■小装置size（根据每个客户可以定制）
8英寸晶片对应的情况
装置本体1100（）,800（），1900（高）
药液供给单元 510（）,800（），1800（高 |
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2.高性能低价格的设定 |
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本公司致力于客户，在满足流程性能的基础之上，大力降低装置的价格。
例如，通过独自设计，通过处理Chamber构造，不安装サックバック达到防止漏液等。
洗净装置通过独自的搬送方式，紧凑低价的式样。
最适合『追求高性能低价格的客户』。
以下为本公司产品与其他公司进行比较的示意图。装置性能与大型制造装置公司同等，并且价格约为其的2分之1。 |
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3.定制可能 |
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提供公司必要的流程性能与装置SIZE，价格等信息，向贵公司提供最合适的装置设计。以往的装置由于装置配备的机能，材质等过剩的原因，导致装置价格较高。
MTK以客户第一位原则，在了解顾客的预算的基础上，决定装置的式样。
如果您有任何烦恼即疑问请先联系MTK。 |
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4. 完善的制造支持体制 |
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本公司MTK是进行对于装置的式样选定，流程条件的提案等的专业公司。
一方面，为了补充作为小企业的MTK的不足，我司与其他经验丰富的公司缔结了协助关系。
为了对应大量的订单，制造是在株式会社SHINANO精机进行。
而且提供24小时以内的现地支援。株式会社SHINANO精机，位于新泻县长冈市，主要制造半导体用制造装置，及提供售后服务的专业集团。
在国内贩卖网的扩充及需要大资金的装置业务中，致力于可以给客户提供安心的服务。
金泽机工株式会社位于金泽市，是一个有70年历史的优良老字号企业。 |
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| 晶片尺寸 |
4inch
6 inch,8 inch (Option; inch,8 inch ) |
| 晶片材质 |
LSI wafer
(SiC，Si, GaAs, GaN…) , Glass wafer |
| 处理腔体 |
1～4 个腔体 |
| 药液 |
2种药液( 特别规格可以对应3种药液.) |
| 药液温度 |
最大80℃（以上需要特别规格） |
| 选项设备 |
2流体溅射(推荐),超音波喷嘴 |
| 厂务设施需求 |
DIW, N2,
CDA, 电源100V/200V , Vacuume |
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| 性能(保障値） |
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| 尘埃粒子 |
< 40 pcs./wafer ( > 0.08um particle
size ）
< 10 pcs./wafer ( > 0.1um particle
size ） |
| 金属残留 |
< １E10 atoms/cm2 |
| 蚀刻均匀性 |
< 2% (Thermal SiO2 film) |
| 化学药品回收率 |
>95% |
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