臭氧水生成装置  
     
 
 
     
 
 
■臭氧水浓度高
(最大30ppm)
■臭氧水中无金属杂质
半导体,液晶,太阳能电池等洁净规格(臭氧水生成部由氟素树脂材料组成)
■臭氧浓度上升快
达到臭氧最大浓度仅需大约1分钟
■生成器体积小
长400mm。宽550mm。高820mm(标准规格)
■与其他公司产品相比价格低廉
 
   
 
 
 

 节约成本替代药品

 
目前市场上关于半导体晶片的清洗,主要使用的是SCL(氨/过氧化氢)硫酸,盐酸等药物,价格较高。使用臭氧水和稀氢氟酸来代替这些化学药品,在降低成本的同时,可以更好地去除金属杂质。   臭氧具有仅次于氟的高氧化还原电位,可以氧化分解大量杂质。例如,氧化有机物质并除去二氧化碳气体。此外,通过氧化硅的表面形成二氧化硅膜,从而实现清洗后不留斑点。   我们设计在臭氧水生成一个点的核心不具有所谓的多余的质量设计。除了氧气,其他原料几乎不消耗,因此具有很高的性价比(取决于机型)。
 

 使用臭氧水生成装置的

 
○ 半导体(清洗)
○ FPD、液晶(清洗)
○ MEMS,传感器(清洁)
○ 硬盘(清洗)
○ 太阳能电池(清洁)
○ 医疗(洗手,纯净水管道清洗))
○ 食品(洗手,消毒,除臭)
 

 使用臭氧水可去除的物质以及所需臭氧的浓度

 
利用臭氧的强氧化能力,可以实现分解并去除大量的杂质。
根据杂质的形状与数量的不同,所需浓度也将有所变化,请参考右图数据。
此外,如将稀氢氟酸与臭氧水同时使用,去除杂质的效果将倍增。
 
 
 

基本规格

項目 項目
 臭氧生成方式  无声放电法
 将臭氧气体溶解于纯净水的方法  喷射方式
 臭氧水中臭氧的浓度监测  紫外吸收法
 臭氧水浓度  最高30ppm
 臭氧水流量  最高50L/min
 设备尺寸  宽度400mm 深度550mm 高度850毫米(标准型)
 重量  20~100Kg
 消耗功率  ~3KW
 氧气压力  为0.1MPa(供给为0.3MPa)
 氧气纯度  99.5%(指定)
 氧气消耗量  ~16L/min.
 供应纯净水的压力  0.20Mpa以上(理想值0.25MPa)
 供应纯净水的温度  低于25℃
 臭氧气体生成部的冷却水温度 理想值为20℃以下。如无法实现,需根据情况增加冷却器(可选)。
CO2气体消耗量
(臭氧浓度过高时需通过纯净水行注入)
 大约100cc/min
 
 
 
装置
类型
产品 用途 臭氧
浓度(ppm)
流量
(L/min)
交货期
·而半导体精密清洗
·LED,LCD,传感器
·太阳能电池,MEMS部
·半导体用洁净规格。
·所有的过流部件均采用塑料部件。( 臭氧水中不含有金属成分)
25
10
1~
2.5个月
25
30
20
2.5
20
5
10
5
10
10
5
10
5
20
允许臭氧水含有少量金属成分 ·低价版。
·在气体溶部位使用SUS316材质的装置,管道。臭氧气体生成部与上述相同。
·如果允许臭氧水含有少量金属成分,与I机型相比价格低廉。
25
10
25
30
20
2.5
20
5
10
5
10
10
5
10
5
20
 
 
 

 ①减少化学药品的使用

 
a) 半导体用化学药品一般包括SC1(NH4OH/H2O2/DIW) 和SC2 (HCl/H2O2/DIW),但是SC1 和SC2是相对较贵,并且需在60-100 ℃的高温条件下发生作用,难以使用。而近年,臭氧水作为可替代SC1 和SC2 的新的清洗方式, 受到广泛关注。因为仅仅是将纯净水通过臭氧水生成器,便可以简单地产生臭氧,因此可大大降低运营成本。
b) 使用臭氧水进行清洗处理后,臭氧成分便迅速蒸发,因此废水处理也十分容易。
 

 ②出色的清洗能力(颗粒, 金属污染物,有机物质)

 
因为臭氧拥有仅次于氟素的氧化还原能力,其清洗能力高于SC1、SC2尤其是用于清洗表面很难氧化的碳化硅或氮化镓基板也十分有效。(两者作为半导体材料受到广泛关注)
 

 推荐的清洗处理方法

 
   
 
※清洗装置使用枚叶式主轴。
 

 使用臭氧水的优点(与使用药液的比较)

 
使用臭氧水 优劣判断 使用药液
①仅次于氟素的强氧化能力
  →去除金属,有机物强力有效
× ①使用盐酸,硫酸,双氧水等具有强酸性的药液,并且药液具有100℃左右的高温,操作时要十分注意。
②臭氧水处理后形成氧化膜,(0.8nm左右)
  →晶片表面具有亲水性
  →晶片表面粒子数少
②将氨气/双氧水与上述①强酸一起使用的情况较多(为了除去粒子)
③臭氧成分通过自然蒸发,或者通过使用简易臭氧分解设备, 从而使工厂排水变为可能。
  →臭氧水易蒸发,立刻变成纯水
  →可以使用工厂废水管道排放臭氧水
  →纯水可循环利用
③药液使用后,使用工厂的废液处理设备中和处理。
   → 药液不可循环使用
 
成本比较
⑤消耗材料价格低
  →基本上只需支付氧气费用和电费
  总计费用52,900日元/月(634,800日元/年)
× ④药液成本高。(以使用浴槽式设备清洗为例计算)
总计药液费用:9,450,060日元/月(113,400,720日元/年)
(上述⑤的具体内容)
·氧气费用:1liter/分 、1,300日元/m3、臭氧水制造设备的运转率以80%计算为例 → 1个月氧气使用费:46,000日元
·电费  设备消耗电力:400W,电费以30日元/KWh为例,每个月的电费6,900日元/月
(上述④的具体内容)
·硫酸/双氧水(50升*3回交换/每天。成分比:硫酸5对双氧水1。硫酸单价:1,000日元/500ml,双氧水单价:1,300日元/500ml)
→每月硫酸消耗量3,750升(7,500,060日元/月)
→每月双氧水消費量750升(1,950,000日元/月)
⑥与其它公司相比,低价提供设备
 

 臭氧水清洗处理后的金属附着量

 
 
 
 

枚叶式清洗设备CL系

 
 

臭氧水生成装置

 
 
 

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